Wie sorgt Semipol die Probenqualität mit parallele Schleif- und Poliertechnologie?- Trojan (Suzhou) material technology Co., Ltd.

Der Kern der hochpräzisen quantitativen Mühle von Semipol liegt in seiner parallelen Schleif- und Poliertechnologie. Diese Technologie stellt sicher, dass die Probenoberfläche während des Schleifprozesses durch präzise mechanische Steuerung und effizientes Schleifprozess eine hohe Konsistenz und Flachheit aufrechterhält. Diese Konsistenz und Flachheit hängt nicht nur mit dem Erscheinungsbild der Probe zusammen, sondern auch eine wichtige Garantie für die Bildqualität der Probe unter dem Mikroskop.

Präzise mechanische Kontrolle:
Semipol nimmt fortschrittliches mechanisches Design an, einschließlich Präzisionsschleifscheiben, stabilen Schleifsitzen und hochpräzisen Antriebssystemen. Die koordinierte Arbeit dieser Komponenten gewährleistet Stabilität und Genauigkeit während des Schleifprozesses.
Die Geschwindigkeit und Richtung der Schleifscheibe kann eingestellt werden, um die Schleifbedürfnisse verschiedener Materialien zu erfüllen. Gleichzeitig kann die Schwunggeschwindigkeit und Amplitude des Schleifsitzes auch genau von zwei Steppermotoren kontrolliert werden, wodurch der Schleifprozess eine vollständige Steuerung erreicht wird.
Effizienter Schleifprozess:
Der Schleifprozess von Semipol hat eine lange Zeit der Forschung und Entwicklung und Optimierung durchlaufen, um die perfekte Kombination aus Schleifffizienz und Schleifqualität zu gewährleisten. Während des Schleifprozesses wurde die Auswahl der Schleifflüssigkeits- und Schleifpartikel, die Kontrolle des Schleifdrucks und die Einstellung der Schleifzeit sorgfältig berechnet und experimentell verifiziert.
Durch Überwachung der Menge an Material, die während des Schleifprozesses in Echtzeit entfernt wurde, Semipol hohe Präzision quantitative Schleifmaschine kann die Genauigkeit und Konsistenz des Schleifens gewährleisten. Wenn der Set-Schleifbetrag erreicht ist, wird das Gerät automatisch nicht mehr ausgeführt, wodurch das Risiko von Übergrenzung und Probenschäden vermieden wird.

Der Vorteil der parallelen Schleifungs- und Poliertechnologie besteht darin, dass die Bildqualität der Probe unter dem Mikroskop erheblich verbessern kann. Eine flache und konsistente Probenoberfläche kann das Licht gleichmäßiger reflektieren, sodass das Mikroskop klarere und genauere Bilder erfassen kann.
Verbesserte Auflösung: Eine flache Probenoberfläche reduziert Lichtstreuung und Interferenz, sodass das Mikroskop subtilere Strukturen und Details unterscheidet. Dies ist entscheidend für die Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Biologie und Halbleiterherstellung.
Verbesserter Kontrast: Eine konsistente Probenoberfläche macht das Bild unter dem Mikroskop kontrastreicher und erleichtert den Forschern die Unterscheidung verschiedener Substanzen und Strukturen.

Neben der Verbesserung der Qualität der Mikroskop -Bildgebung bietet die parallele Schleif- und Poliertechnologie von Semipol auch eine zuverlässige Grundlage für die nachfolgende Datenanalyse und die wissenschaftliche Forschung.
Genauigkeit: Eine flache und konsistente Probenoberfläche sorgt für die Genauigkeit der Messdaten. In der Materialwissenschaft können selbst kleine dimensionale Veränderungen einen erheblichen Einfluss auf die Leistung des Materials haben. Daher ist eine genaue Probenvorbereitung eine Voraussetzung für die Gewährleistung der Genauigkeit der Datenanalyse.
Wiederholbarkeit: Semipols paralleles Schleif- und Poliertechnologie ist sehr wiederholbar. Dies bedeutet, dass Forscher unter verschiedenen experimentellen Bedingungen wiederholt Proben derselben Qualität erstellen können, wodurch die Zuverlässigkeit und Gültigkeit der experimentellen Ergebnisse überprüft werden.

Aufgrund seiner hervorragenden parallelen Schleif- und Poliertechnologie wird in vielen Feldern die quantitativen Schleifmaschinen mit hochpräzisetztem Semipol weit verbreitet.
Materialwissenschaft: In der Materialwissenschaftforschung kann Semipol qualitativ hochwertige Proben zur Beobachtung und Analyse der Mikrostruktur und Eigenschaften von Materialien vorbereiten.
Semiconductor Manufacturing: Im Semiconductor -Herstellungsprozess kann Semipol die Flachheit und Konsistenz des Wafers gewährleisten und damit die Herstellungsqualität und den Ertrag des Chips verbessern.
Optische Linsenverarbeitung: In der optischen Linsenverarbeitung kann Semipol hochpräzise Objektivoberflächen auf die Bedürfnisse verschiedener optischer Systeme erstellen.